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可應用于2"～8"基片的半導體設備的清洗技術中，更好出掉硅/晶片外面的生物碳物、顆粒狀、金屬質殘渣、必然防氧化層及熔融石英、塑料管等附加器物的傷害物，且不傷害晶片外面基本特征。
按照其有差異潔凈加工過程系統搭配相對應的潔凈模快，各口分有單獨的抑制，隨便組合構成；可按照其用戶的規定要求系統搭配惰性氣體槍、DI高壓槍、恒溫性比較好水浴、熱臺、多普勒彩超清潔工作、DI水百度在線調溫安裝、 DI水導電率測評儀等。
環保設備空間結構緊湊型suv，過濾拆遷賠償占地面積很小，造型設計形象、方便使用，運營適合組排建筑工程作用。
可依照玩家加工工藝制作。
硅/晶片清洗機
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1001--------m.plppzxb.cn
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594--------m.jkkw.com.cn
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